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E-Blot接觸式化學(xué)發(fā)光電子壓片成像儀

更新時間:2024-08-08

簡要描述:

【背景介紹】WesternBlot:蛋白免疫印跡,是將PAGE電泳分離后的蛋白質(zhì)從凝膠轉(zhuǎn)移到固相支持物NC膜或PVDF膜上,固相載體膜以非共價鍵形式吸附蛋白質(zhì),且能保持電泳分離的多肽類型及其生物學(xué)活性不變

背景介紹

Western Blot:蛋白免疫印跡,是將PAGE電泳分離后的蛋白質(zhì)從凝膠轉(zhuǎn)移到固相支持物NC膜或PVDF膜上,固相載體膜以非共價鍵形式吸附蛋白質(zhì),且能保持電泳分離的多肽類型及其生物學(xué)活性不變。以固相載體上的蛋白質(zhì)或多肽作為抗原,與對應(yīng)的抗體起免疫反應(yīng),再與酶或同位素標(biāo)記的第二抗體起反應(yīng),經(jīng)過底物顯色或放射自顯影以檢測電泳分離的特異性目的基因表達的蛋白成分。該技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于分子生物學(xué)、生物化學(xué)和免疫遺傳學(xué)中。

Western Blot顯色的方法主要有以下幾種:

放射性自顯影

底物化學(xué)發(fā)光ECL

底物熒光ECF

底物DAB呈色

,文獻里最多,也是大家最熟悉的就是底物化學(xué)發(fā)光ECL。原理是二抗用HRP標(biāo)記:反應(yīng)底物為過氧化物+魯米諾,如遇到HRP,即發(fā)光,采集該發(fā)光信號,如暗盒壓膠片法,以及各種化學(xué)發(fā)光采集成像系統(tǒng)儀器。

Western blot 常用的幾種成像方法及優(yōu)劣勢如下:
 

  成像方法優(yōu)勢劣勢
直接顯色法DAB顯色1.操作簡單
2.無需暗房
3.無需成像設(shè)備
4.成本低
1.靈敏度低,低豐度蛋白無法檢測
2.定量范圍窄,只有1.5OD,表達差異大的蛋白無法準(zhǔn)確定量
化學(xué)發(fā)光法暗房壓片1.壓片過程沒有光損失,靈敏度,可以實現(xiàn)極微弱信號的成像
2.無需購置設(shè)備
1.需要一個獨立的暗房             
2.定量范圍窄,只有1.8OD,表達差異大的蛋白無法準(zhǔn)確定量
3.需要膠片、顯影液定影液等耗材                          
冷CCD成像1.定量范圍高,高達4.8OD,表達量差異大的蛋白可以準(zhǔn)確定量
2.檢測靈敏度高
1.成像過程有大量的光損失,達不到壓片的靈敏度,非常低豐度的蛋白檢測不到  
2.需要購置冷 CCD 成像設(shè)備、維護成本                        
熒光法RGB可見熒光1.可以實現(xiàn)多重檢測1.Western Blot膜本身的熒光背景非常高,導(dǎo)致成像靈敏度非常低,低豐度蛋白檢測不到
2.操作過程需要在避光的環(huán)境下進行
3.熒光抗體種類不夠多且成本高
4.多重檢測需要做大量的實驗條件優(yōu)化
5.需要特殊的試劑
6.熒光成像設(shè)備成本高
近紅外熒光1.可以實現(xiàn)多重檢測 
2.相對于可見熒光背景低
1.Western Blot膜本身的熒光背景導(dǎo)致成像靈敏度不夠,低豐度蛋白檢測不到   
2.操作過程需要在避光的環(huán)境下進行   
3.熒光抗體種類不夠多且成本高
4.多重檢測需要做大量的實驗條件優(yōu)化
5.需要特殊的試劑
6.近紅外熒光成像設(shè)備成本非常高

在各種成像方法中,冷CCD化學(xué)發(fā)光成像由于具有操作簡單、靈敏度高、定量范圍寬等優(yōu)勢,成為了歡迎的成像方法,超過99%的科研人員再使用。

但是,隨著科研的不斷深入,科研人員反應(yīng)Western blot也越來越難做,科學(xué)家在Western bot方面面臨的難題具體表現(xiàn)在:

1.高豐度表達的蛋白都被做完了,剩下的盡是低豐度表達的蛋白,需要更加靈敏的成像技術(shù)。

2.容易獲取的樣品都被做完了,剩下的盡是不容易獲取的樣品,一份樣品要做多個實驗,也是需要更加靈敏的成像技術(shù),且要求實驗盡量要一次能做成,沒有樣品用來做大量的條件優(yōu)化。

3.蛋白表達差異大的都被做掉了,剩下的盡是些蛋白表達差異不大,需要能準(zhǔn)確定量的成像技術(shù)。

雖然冷 CCD 化學(xué)發(fā)光成像方法有多種優(yōu)勢,被絕大多數(shù)人使用,但是由于其本身的技術(shù)限制,在面臨超低豐度蛋白、稀有樣品和表達差異不大的樣品時就顯得無能為力了,這些隨著科研逐步深入所帶來的難題急需新的技術(shù)出現(xiàn)來解決。
這些技術(shù)限制包括:

1.冷CCD成像儀器所用的芯片本身太小,大多只有 1 英寸或者更小,信號獲取的能力遠遠不夠,導(dǎo)致微弱信號不能被采集到。

2.冷CCD成像儀器成像芯片本身的單個像素尺寸太小,邊長一般在3-6um之間,像素太小導(dǎo)致芯片本身儲存信號的能力太小,導(dǎo)致信號極易過度曝光,無法準(zhǔn)確定量。

3.冷CCD成像Western blot膜離CCD距離太遠,導(dǎo)致絕大部分的光信號傳輸過程中直接損失掉了,并未到達CCD感光芯片,進一步降低信號采集的能力。

4.冷CCD成像需要前面加一個鏡頭才能實現(xiàn)成像,鏡頭內(nèi)部都有一系列的透鏡組,這些透鏡組也會將本就非常微弱的化學(xué)發(fā)光信號阻擋掉一大半。

5.冷CCD成像所需成像時間太長,CCD本身的噪音隨著時間的延長會隨之積累,弱信號會被這些噪音所掩蓋掉以至于不能成像。

eBlot接觸式成像技術(shù),是成像領(lǐng)域的革命性突破。這項革命性創(chuàng)新的技術(shù)克服了現(xiàn)有技術(shù)在成像靈敏度、定量范圍、成像速度和儀器體積大等諸多瓶頸,實現(xiàn)了Western Blot成像技術(shù)新的飛躍。

產(chǎn)品概述

1.E-Blot采用超大尺寸感光芯片,讓Western Blot化學(xué)發(fā)光成像進入新時代。不同于傳統(tǒng)的暗室壓片,不同于常用的制冷CCD圖像采集,E-Blot讓樣品和感光芯片親密接觸,兼顧光學(xué)膠片的高靈敏以及CCD相機的方便性。

2.E-Blot有超寬的動態(tài)采集范圍,可以對弱信號、強信號同時捕捉,整個過程非常優(yōu)雅。

3.沒有長時間的等待,沒有各種條件摸索,眨眼間幾秒時間就能得到真實的數(shù)據(jù)。

4.E-Blot尺寸比A4紙還小,裸機不到1kg。獲得德國紅點設(shè)計獎,型于外而慧于中。

5.Touch viewer操作、分析軟件能夠便捷的進行圖像采集、分析等工作,非常便捷。

產(chǎn)品參數(shù)

成像面積

15cm*11cm

預(yù)冷

無需

像素融合

無需

A/D動態(tài)范圍 

16bit(真實)

滿阱電子容量

百萬級e-

像素融合

無需

采集時間

1秒-60秒

曝光模式

信號累計

拍攝模式 

手動/自動

光源控制

化學(xué)發(fā)光、落射白光

設(shè)備體積

25cm(長)*12cm(寬)*5cm(高)

系統(tǒng)凈重

650g

連接方式

RJ45


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